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2026中國(guó)(上海)國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)

China (Shanghai) International Photoresist Materials Exhibition2026

〓基本信息〓

時(shí)間：2026年12月9-11日

地點(diǎn)：上海新國(guó)際博覽中心

〓展會(huì)簡(jiǎn)介〓

    2026中國(guó)(上海)國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)將集中展示光刻膠材料行業(yè)的最新產(chǎn)品與技術(shù)，為企業(yè)樹(shù)立品牌形象，促進(jìn)貿(mào)易合作、市場(chǎng)開(kāi)發(fā)，引領(lǐng)行業(yè)趨勢(shì)，加強(qiáng)生產(chǎn)、研發(fā)、銷(xiāo)售互動(dòng)，深入洞悉國(guó)內(nèi)外光刻膠材料及應(yīng)用市場(chǎng)未來(lái)發(fā)展新風(fēng)向，以發(fā)展的眼光挖掘未來(lái)光刻膠材料市場(chǎng)的新需求，創(chuàng)新展會(huì)內(nèi)涵，全方位、多層次組織專(zhuān)業(yè)觀眾，我們竭力將此次展覽會(huì)辦成光刻膠材料展覽會(huì)界同仁交流的舞臺(tái)，推動(dòng)光刻膠材料展覽會(huì)科技創(chuàng)新、提供發(fā)展商機(jī)，著力打造互惠共贏的平臺(tái)！

   2026中國(guó)(上海)國(guó)際光刻膠材料展覽會(huì)定于2026年12月9日-11日于上海新國(guó)際博覽中心舉辦，邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)外專(zhuān)家與參會(huì)代表前來(lái)互動(dòng)交流，探討行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，分享各自取得的經(jīng)驗(yàn)成果，同時(shí)也向國(guó)際光刻膠材料行業(yè)展再邁進(jìn)堅(jiān)實(shí)的一步！屆時(shí)，熱忱歡迎國(guó)內(nèi)外的光刻膠材料企業(yè)及其相關(guān)行業(yè)人士前來(lái)參觀與交流！

〓日程安排〓

報(bào)到布展：

2026年12月7-8日 AM8:30-PM19:30

展出時(shí)間：

2026年12月09日 AM9:30-PM16:45

2026年12月10日 AM9:30-PM16:45

2026年12月11日 AM9:30-PM16:45

〓參展范圍〓

1.PCB光刻膠、干膜光刻膠、濕膜光刻膠、LCD光刻膠、TFT正性膠、彩色光刻膠、黑色光刻膠、G線光刻膠、線光刻膠、KRF光刻膠、ARF光刻膠、CCD攝像頭彩色濾光片光刻膠、MEMS光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、生物芯片光刻膠、LED光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等：

2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導(dǎo)體高端光刻膠、光刻膠配套試劑（PSPI）光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負(fù)膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設(shè)備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺（PI）、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導(dǎo)體化合物、光刻膠聚合物。

3.ASML光刻機(jī)、IC前道光刻機(jī)、紫外光刻機(jī)（EUV）光學(xué)、光刻設(shè)備、光刻膠用光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）光刻膠樹(shù)脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產(chǎn)酸劑、鋯前驅(qū)體集、生產(chǎn)、檢測(cè)等

〓聯(lián)系我們〓

聯(lián)系人：張先生13636604883（同微信）